?刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的差別：光刻機(jī)把圖案設(shè)計(jì)刻上去，隨后刻蝕機(jī)依據(jù)刻上去的圖案設(shè)計(jì)離子注入掉有圖案設(shè)計(jì)（或是沒(méi)有圖案設(shè)計(jì)）的一部分，留有剩余的部分。離子注入相對(duì)性光刻技術(shù)要非常容易。假如把在硅晶體上的工程施工比成木工活得話(huà)，光刻機(jī)的功效等同于木工在木材上用墨斗線畫(huà)線，刻蝕機(jī)的功效等同于木工在木材上用手鋸、木工鑿、斧頭、刨刀等工程施工。蝕刻機(jī)和光刻機(jī)特性一樣，但精密度規(guī)定是天差地別。木工做細(xì)心活，一般精準(zhǔn)到mm就可以了。做處理芯片用的刻蝕機(jī)和光刻機(jī)，要精準(zhǔn)到納米。

如今的手機(jī)處理器，如海思麒麟970，驍龍?zhí)幚砥?45全是tsmc的10納米技術(shù)。10納米有多小呢？舉個(gè)例子。假如把一根直徑是0.05mm發(fā)絲，按徑向均值割成5000片，一片的薄厚大概便是10納米。如今世界最專(zhuān)業(yè)的光刻機(jī)是荷蘭的ASML企業(yè)，最少到10納米。tsmc買(mǎi)的全是它的光刻機(jī)。ASML企業(yè)事實(shí)上是美國(guó)、荷蘭、德國(guó)等好幾個(gè)國(guó)家技術(shù)協(xié)作的結(jié)果。由于這方面的科學(xué)研究難度系數(shù)很大，單獨(dú)國(guó)家進(jìn)行不了。除開(kāi)ASML，全世界僅有大家仍在高檔光刻機(jī)上勤奮產(chǎn)品研發(fā)。

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我們都是遭受技術(shù)禁售的，不可以買(mǎi)他最現(xiàn)代化的商品，中國(guó)上海市批量生產(chǎn)的是90納米的光刻機(jī)。技術(shù)上面有差別。2017年，長(zhǎng)春光機(jī)所“極紫外線”技術(shù)得到提升，預(yù)估能做到22-32納米，技術(shù)差別變小了。

我堅(jiān)信，沒(méi)多久的未來(lái)，大家的科研人員一定能研發(fā)出全球一流的光刻機(jī)，不會(huì)再被受制于人。關(guān)鍵技術(shù)、重要技術(shù)、大國(guó)重器務(wù)必立足自身。高新科技的科技攻關(guān)要革除想象，靠我們自己。

大家刻蝕機(jī)技術(shù)早已提升，5納米的刻蝕機(jī)大家也可以獨(dú)立生產(chǎn)制造，如今受制于人的是光刻機(jī)。在芯片加工全過(guò)程中，光刻機(jī)施工放樣，刻蝕機(jī)工程施工，清洗設(shè)備清理。隨后不斷循環(huán)系統(tǒng)幾十次，一般要500道上下的工藝流程，處理芯片——也就是電子管的電子器件才可以進(jìn)行。施工放樣達(dá)不上精密度，刻蝕機(jī)就喪失立足之地了。